薄膜雖然看起來(lái)就是一片薄薄的膜，但是其的作用卻是不可估量的。當(dāng)然，其的制作也是非常復(fù)雜的一個(gè)過(guò)程，就小編所知，薄膜的應(yīng)用參數(shù)就有不少，小編今天就是要跟大家聊聊關(guān)于薄膜應(yīng)用的參數(shù)相關(guān)信息。薄膜的其中一種參數(shù)名稱叫二氧化鈦(TiO?)，下面我們來(lái)了解下這個(gè)是什么樣的物質(zhì)：

       TiO?由于它的高折射率和相對(duì)堅(jiān)固性，人們喜歡把這種高折射率材料用于可見(jiàn)光和近紅外線區(qū)域,但是它本身又難以得到一個(gè)穩(wěn)定的結(jié)果.TiO?,Ti2O3. TiO,Ti，這些原材料氧-鈦原子的模擬比率分別為：2.0,1.67,1.5,1.0,0. 后發(fā)現(xiàn)比率為1.67的材料比較穩(wěn)定并且大約在550nm生成一個(gè)重復(fù)性折射率為2.21的堅(jiān)固的膜層，比率為2的材料第一層產(chǎn)生一個(gè)大約2.06的折射率，后面的膜層折射率接近于2.21.比率為1.0的材料需要7個(gè)膜層將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無(wú)吸收性，幾乎每一個(gè)TiO2蒸著遵循一個(gè)原則：在可使用的光譜區(qū)內(nèi)取得可以忽略的 吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TiO2需要使用IAD助鍍，氧氣輸入口在擋板下面.

       Ti3O5比其它類型的氧化物貴一些，可是很多人認(rèn)為這種材料不穩(wěn)定性的風(fēng)險(xiǎn)要小一些，PULKER等人指出，最后的折射率與無(wú)吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率.例如，基板板溫度為400℃時(shí)在550納米波長(zhǎng)得到的折射率為2.63，可是由于別的原因，高溫蒸著通常是不受歡迎的，而離子助鍍已成為一個(gè)普遍采用的方法其在低溫甚至在室溫時(shí)就可以得到比較高的折射。

       通常需要提供足夠的氧氣以避免(因?yàn)橛形談t降低透過(guò)率)，但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值(LDT).TiO2的折射率與真空度和蒸發(fā)速度有很大的關(guān)系，但是經(jīng)過(guò)充分預(yù)熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見(jiàn)光和近紅外線光譜中，TiO2很受到人們的歡迎. 在IAD助鍍TiO2時(shí)，使用屏蔽柵式離子源蒸發(fā)則需要200EV，而用無(wú)屏蔽柵式離子源蒸發(fā)時(shí)則需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估計(jì)大約是驅(qū)動(dòng)電壓的60。

       如果離子能量超過(guò)以上數(shù)值，TiO2將有吸收.而SiO2有電子槍蒸發(fā)可以提供600EV碰撞(離子輻射)能量而沒(méi)有什么不良效應(yīng). TiO2/SiO2制程中都使用300EV的驅(qū)動(dòng)電壓，目的是在兩種材料中都使用無(wú)柵極離子源，這樣避免每一層都改變驅(qū)動(dòng)電壓，驅(qū)動(dòng)電壓高低的選擇取決于TiO2所允許的范圍，而蒸著速度的高低取決于完全致密且無(wú)吸收膜所允許之范圍. TiO?用于防反膜，分光膜，冷光膜，濾光片，高反膜,眼鏡膜，熱反射鏡等，黑色顆粒狀和白色片狀，熔點(diǎn)：1175℃

       上述就是薄膜應(yīng)用參數(shù)——二氧化鈦的相關(guān)信息說(shuō)明，這些關(guān)于薄膜的應(yīng)用參數(shù)雖然有點(diǎn)晦澀難懂，但是能多了解的話，對(duì)于大家對(duì)薄膜的選購(gòu)也是有一定的幫助的，如有需要?dú)g迎來(lái)電咨詢強(qiáng)輝科技。